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    膜厚測量儀FR-pRo應用


    發(fā)布時間:2025-08-07   資訊類別: 其它資訊   我要發(fā)布
    膜厚測量儀 FR-pRo 是一款基于白光反射光譜(WLRS)技術的模塊化光學測量設備,其核心應用領域及優(yōu)勢可歸納如下:

    一、核心應用領域
    1.半導體制造
    應用場景:光刻膠、電介質層、光子多層結構、多晶硅(poly-Si)、單晶硅(Si)、類金剛石碳(DLC)等薄膜厚度測量。
    典型案例:
    測量4英寸硅片退火處理后二氧化硅膜厚分布。
    監(jiān)測8英寸硅片上多晶硅層的均勻性。
    優(yōu)勢:非接觸式測量避免晶圓損傷,支持納米級分辨率(垂直分辨率達0.1nm),滿足半導體工藝對精度的嚴苛要求。
    2.光伏產業(yè)
    應用場景:太陽能電池各層薄膜(如非晶硅、CIGS、PERC電池的氮化硅/氧化鋁鈍化層)厚度控制。
    優(yōu)勢:通過膜厚優(yōu)化提升光電轉換效率,減少材料浪費。
    3.液晶顯示(LCD/OLED)
    應用場景:彩色濾光片(CF)、薄膜晶體管(TFT)陣列、偏光片等關鍵膜層的厚度均勻性檢測。
    優(yōu)勢:支持大面積基板(如G8.5代線)的快速掃描,確保顯示面板的色彩一致性和良率。
    4.光學薄膜與鍍膜
    應用場景:光學鏡頭、濾光片、反射鏡等器件的增透膜、高反膜、分光膜厚度測量。
    典型案例:
    測量BK7玻璃上ITO(氧化銦錫)導電膜厚度(如219.8nm)。
    分析熔融石英基板上PEDOT:PSS導電聚合物膜的厚度(如41.5nm)。
    優(yōu)勢:支持透明/半透明基底上的多層膜堆疊分析,可同時獲取厚度與光學常數(n&k)。
    5.生物醫(yī)學工程
    應用場景:派瑞林(Parylene)涂層、醫(yī)用導管/支架表面涂層、氣泡壁厚等微納級薄膜檢測。
    優(yōu)勢:非破壞性測量保護生物樣本完整性,支持液體環(huán)境下的動態(tài)監(jiān)測。
    6.微機電系統(tǒng)(MEMS)與微光機電系統(tǒng)(MOEMS)
    應用場景:微傳感器、微執(zhí)行器中結構層的厚度控制(如硅基MEMS的犧牲層釋放后厚度驗證)。
    優(yōu)勢:三維表面測量功能(表面高度范圍2nm-500μm)適應復雜微結構需求。

    二、技術優(yōu)勢
    1.超寬測量范圍
    厚度覆蓋1nm-3mm,兼容從原子層沉積(ALD)到厚涂層(如噴涂)的全尺度需求。
    3.模塊化設計
    核心單元:集成小型高性能光譜儀(200-2500nm可調)、高穩(wěn)定性光源(鹵鎢燈/氘燈)及電子控制模塊。
    擴展模塊:
    反射/透射探針(200μm光斑尺寸)。
    液體環(huán)境測量套件(聚四氟乙烯容器+石英光學窗口)。
    加熱裝置(溫度控制范圍室溫-200℃)。
    用戶自定義配置:通過組合不同模塊,實現(xiàn)從實驗室研發(fā)到生產線在線檢測的全場景覆蓋。
    3.高精度與快速性
    分辨率:垂直分辨率0.1nm,厚度重復性±0.2nm。
    速度:單點測量時間<1秒,支持高速掃描(如8英寸晶圓全片測量僅需數分鐘)。
    4.智能化軟件支持
    FR-Monitor軟件:
    自動擬合反射光譜,計算膜厚及光學常數(n&k)。
    內置600+種材料數據庫,支持離線分析與結果導出。
    提供理論反射光譜模擬,輔助工藝優(yōu)化。
    兼容性:支持Windows系統(tǒng),可集成至CNC機床或自動化生產線。

    三、典型應用案例
    1.ITO/PEDOT:PSS導電膜測量
    挑戰(zhàn):柔性顯示基材上超薄導電膜的厚度均勻性直接影響器件性能。
    解決方案:使用FR-pRo VIS/NIR(370-1020nm)型號,通過反射光譜擬合,精確區(qū)分ITO(219.8nm)與PEDOT:PSS(41.5nm)雙層結構。
    2.半導體晶圓膜厚映射
    需求:監(jiān)測退火工藝對二氧化硅膜厚的影響。
    成果:實現(xiàn)4英寸硅片全表面厚度分布測量,空間分辨率達10μm,發(fā)現(xiàn)邊緣區(qū)域厚度波動<0.5%。
    3.光伏電池鈍化層優(yōu)化
    目標:通過氮化硅膜厚控制提升電池效率。
    數據:FR-pRo測量顯示,膜厚從75nm優(yōu)化至82nm后,電池短路電流提升1.2%。

    四、操作要點
    1.樣品準備:確保表面清潔無劃痕,避免影響反射光譜質量。
    2.參數設置:根據材料特性選擇光譜范圍(如有機薄膜用VIS/NIR,金屬膜用UV/VIS)。
    3.環(huán)境控制:在液體或高溫環(huán)境下測量時,需啟用對應擴展模塊。
    4.數據分析:利用軟件的多層擬合功能,區(qū)分基底與薄膜的干涉信號。

    文章資料來源于:http://www.dymek.com.cn/Products-38028931.html,轉載請注明!

    資訊來源:http://www.dymek.com.cn/  


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