離子濺射儀常見的應(yīng)用領(lǐng)域
離子濺射儀是一種常用的物**相沉積（PVD）設(shè)備，主要用于表面處理、薄膜沉積以及材料表面分析。其工作原理是通過加速離子束轟擊材料表面，將材料原子從表面濺射出來，這些濺射出的原子或分子可以被沉積到其他物體的表面形成薄膜，或者用來分析材料的成分。
離子濺射儀基本原理
離子濺射儀是一種利用高能離子束轟擊靶材表面，通過物理濺射效應(yīng)沉積薄膜或制備納米級涂層的設(shè)備。其核心基于動量傳遞機制：
1.離子源產(chǎn)生高能離子（如氬離子Ar⁺），加速后轟擊靶材（如金、鉑、碳等）。
2.靶材原子被濺射出來，沉積在基底（如硅片、金屬片、生物樣本）表面形成均勻薄膜。
關(guān)鍵物理過程：
1.離子加速：離子在電場中加速至100eV-10keV能量。
2.動量傳遞：離子與靶材原子碰撞，將能量傳遞給靶材原子，使其脫離晶格。
3.薄膜沉積：濺射出的原子在基底表面擴散、成核并生長為連續(xù)薄膜。
常見的離子濺射儀的應(yīng)用領(lǐng)域包括：
1.薄膜沉積：用于在基底上沉積金屬、氧化物、氮化物等薄膜。
2.表面清洗：通過離子轟擊去除表面污染物和氧化物，提高樣品表面的質(zhì)量。
3.表面改性：改變材料表面的結(jié)構(gòu)或成分，以提高其性能，如硬度、耐腐蝕性等。
4.材料分析：結(jié)合質(zhì)譜或X射線光電子能譜（XPS）等技術(shù)進行材料表面的元素分析。
技術(shù)優(yōu)勢：
1.高純度薄膜：無化學(xué)污染，適合半導(dǎo)體和光學(xué)應(yīng)用。
2.強附著力：離子轟擊促進基底與薄膜界面混合。
3.厚度可控：納米級精度，適合精密器件。
4.適用性廣：可沉積金屬、合金、陶瓷、聚合物等。
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量程、規(guī)格、外形及安裝尺寸
200，300，500，700，1000kg
技術(shù)參數(shù)
額定載荷
200～1000kg
綜合精度
0.02線性滯后重復(fù)性
靈敏度
2.0 mV/V
蠕變
±0.02 ％FS/30min
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額定載荷
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綜合精度
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靈敏度
2.0mV/V
蠕變
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